研究了高精度非球面中频误差的抑制方法和磨头抑制特性等问题,提出了一种小磨头自适应抛光抑制中频误差的方法。将铣磨后中频误差明显的非球面进行预抛光,以去除亚表面损伤。使用气囊抛光方法将非球面面形精抛到较高精度。使用自研的双柔性自适应抛光磨头进行多轮抛光抑制精抛后非球面表面残留的中频误差,并使用计算全息(CGH)进行面形检测,直到Zernike残差不再收敛。使用此方法成功抛光了一块口径为150mm、最大偏离度为0.183mm的熔石英非球面。通过3轮中频误差抑制,面形方均根值(RMS)从预抛光后的76nm收敛至4.5nm;相应地,Zernike残差RMS由精抛后的22.72nm收敛至3.46nm。实验结果表明,该方法可以实现非球面中频误差的快速有效抑制。

国家科技重大专项(2009ZX02205);

光学制造; 中频误差抑制; 小磨头自适应抛光; Zernike残差; 非球面;

TG74

光学学报

Acta Optica Sinica

2013年08期

ISSN:0253-2239

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