实验研究了表面粗糙度、侧壁垂直度与各刻蚀参量之间的关系,通过对刻蚀效果的分析,发现在低功率、高CHF3含量、低压强的情况下能获得最小的表面粗糙度;在高功率、50%CHF3含量、低压强的情况下能获得较陡直的波导侧壁。利用优化的刻蚀条件,对PMMA进行刻蚀,得到了均方根粗糙度小、侧壁陡直的波导。实验发现,该刻蚀条件对其他聚合物光波导材料的刻蚀也具有一定的指导意义。

教育部科学技术研究重点项目资助(104196);

反应离子刻蚀; 波导; PMMA; 粗糙度; 侧壁垂直度;

TN252

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